2026-09-08 19:50
本週於SPIE光罩技術暨極紫外光微影研討會上,英特爾晶圓代工(Intel Foundry)與ASML分享將高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影技術持續導入生產;例如光罩拼接技術可讓設計人員沿用目前標準的6吋光罩,實現High NA帶來的效益。英特爾與艾司摩爾將進一步攜手合作,加速產業運用High-NA EUV。
2026-09-08 14:39
艾司摩爾(ASML)與台積電今日(9/8)宣布發起合作,雙方將共同引領半導體產業轉移升級至更大尺寸的極紫外光(EUV)微影光罩。台積電並宣布,該公司有意自2030年起,在先進製程量產中導入艾司摩爾的High NA技術。
2026-09-01 12:23
半導體設備巨頭艾司摩爾(ASML)於 SEMICON Taiwan 2026「先進製程科技論壇」中,由 High NA EUV 產品管理副總裁 Greet Storms 親自揭示最新 High NA EUV(高數值孔徑極紫外光,0.55NA)技術的重大突破與商業化進展。
2026-08-31 16:09
半導體邁入埃米世代,imec 定調系統級創新及跨技術整合從微影、材料到先進封裝,揭示支撐下一波 AI 成長的技術路徑。比利時全球微電子研發中心,范登納米勒(Patrick Vandenameele)首度以新任執行長身份訪台,他表示, AI 時代已從各自獨立的技術突破,邁向仰賴跨領域合作的系統級協同優化,並提出跨技術整合將是支撐下一波 AI 發展的關鍵方向。
2026-07-28 16:40
中國傳出自主研發深紫外光(DUV)曝光機許久,美國媒體《The Information》週一(7/27)披露,該業者已進入量產階段,消息一出嚇得全球晶片股跌聲隆隆。不過,摩根大通、摩根士丹利都認為「反應過度」,知名半導體分析師陸行之則指出,長線來看仍將衝擊艾司摩爾等科技產業。
2026-07-15 14:16
全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)今 (7/15)公布2026年第二季財報,會中再度上修全年營收。預計2026年的銷售淨額約在430億至450億歐元之間,相較上季估全年營收約360億到400億歐元間,上調幅度達15.78%。相較2025年營收327億歐元,年增幅達34.55%。艾斯摩爾也大幅上修全年毛利率為54%至56%(先前為51%~53%)。
2026-06-04 09:56
護國神山台積電今日(6/4)在新竹召開年度股東常會,由董事長魏哲家主持。他對台積電未來幾年深具信心,營收會持續成長,股價成長趨勢也能持續。「如果你預計買股票,請繼續」。
2026-05-25 16:03
隨著AI運算與資料中心在全球瘋狂布建,半導體產業在追求極致算力的同時,正面臨空前的電力能耗與綠色永續考驗。ASML副總裁暨台灣總經理汪佳慧今日(5/25)表示,ASML在台灣及全球的營運基地已達成100%再生能源的里程碑。為了應對AI時代客戶的強勁擴產需求,今年將在台灣擴大招募近1000名科技新血。
2026-05-19 21:20
晶片製造設備巨頭艾司摩爾(ASML)最新一代的「高數值孔徑極紫外光」(High-NA EUV)曝光機,遭到台積電表示目前太貴,還沒打算採用。但艾司摩爾執行長福克(Christophe Fouquet)週二信心滿滿地表示,使用High-NA EUV機台製造的晶片,預計「幾個月內」就會開始發貨到市面。
2026-03-30 10:57
關於Elon Musk的Terafab半導體超級工廠,很多人都在爭論可行性,但作為投資者,我們不需要跟著群眾的情緒起伏,而是應該思考問題的本質。
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